評定香蕉視頻app在線觀看:氫脆的實驗方(fang)法有(you)以下幾種。
1. 彎曲次數法
應用板狀試(shi)(shi)樣(yang)，在特制(zhi)的夾具上對試(shi)(shi)樣(yang)進(jin)行一定角度(du)的彎(wan)曲(qu)（通(tong)常是(shi)120°)直至試(shi)(shi)樣(yang)斷裂，記下彎(wan)曲(qu)的總次(ci)數n,脆(cui)性系數α可表示如下：
式中：n空(kong)為不含氫彎(wan)(wan)曲(qu)至斷裂(lie)的(de)次數；n氫為充氫彎(wan)(wan)曲(qu)至斷裂(lie)的(de)次數。
當a=0時(shi)，說明金屬對氫脆不敏感；而(er)當a=1時(shi)，則極為敏感。
2. 斷面收縮率(lv)法
應用拉伸試樣，在一定的(de)(de)拉伸速率(lv)下，測量試樣斷裂時的(de)(de)斷面(mian)收縮率(lv)ψ,其脆(cui)性(xing)系(xi)數可表(biao)示為(wei)：
式中：ψ0為(wei)空白試(shi)樣的(de)斷面收縮率(lv)；ψ為(wei)含(han)氫試(shi)樣的(de)斷面收縮率(lv)；α在(zai)0~1之(zhi)間(jian)變化，α越小，說明氫脆敏感性越小。
3. 慢(man)應變速率拉伸法
此(ci)方法詳見1.4.4小節。
4. 氫滲透(tou)法
目(mu)前(qian)，多采用Devnathan-Stachurski 雙(shuang)電(dian)(dian)解池(chi)技術來測量(liang)腐(fu)蝕(shi)過(guo)程中(zhong)氫的(de)(de)(de)滲透(tou)(tou)量(liang)。它是由作(zuo)為(wei)(wei)(wei)雙(shuang)面電(dian)(dian)極(ji)(ji)的(de)(de)(de)金(jin)屬(shu)(shu)所構成(cheng)的(de)(de)(de)兩個電(dian)(dian)解池(chi)構成(cheng)的(de)(de)(de)，金(jin)屬(shu)(shu)的(de)(de)(de)一(yi)面作(zuo)為(wei)(wei)(wei)陰極(ji)(ji)池(chi)，一(yi)面作(zuo)為(wei)(wei)(wei)陽極(ji)(ji)池(chi)。陰極(ji)(ji)池(chi)內發生(sheng)析氫反應，產生(sheng)的(de)(de)(de)氫原子滲透(tou)(tou)過(guo)金(jin)屬(shu)(shu)試樣在陽極(ji)(ji)池(chi)被氧(yang)(yang)化(hua)(hua)為(wei)(wei)(wei)氫離子，用記錄(lu)儀測得(de)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)電(dian)(dian)流，即氫滲透(tou)(tou)電(dian)(dian)流的(de)(de)(de)大小(xiao)，作(zuo)出它隨時間(jian)的(de)(de)(de)變化(hua)(hua)關(guan)(guan)系圖(tu)，通(tong)過(guo)對電(dian)(dian)流一(yi)時間(jian)曲線下的(de)(de)(de)面積進行(xing)積分(fen)計(ji)算，可得(de)到氫滲透(tou)(tou)量(liang)。改變陰極(ji)(ji)池(chi)電(dian)(dian)解質的(de)(de)(de)濃度(du)和(he)外(wai)加(jia)電(dian)(dian)位的(de)(de)(de)大小(xiao)，作(zuo)出濃度(du)、電(dian)(dian)位與氫滲透(tou)(tou)電(dian)(dian)流的(de)(de)(de)關(guan)(guan)系圖(tu)。此方法較直(zhi)觀，能(neng)夠較準確地(di)測得(de)金(jin)屬(shu)(shu)中(zhong)的(de)(de)(de)氫滲透(tou)(tou)情況，以此來評價金(jin)屬(shu)(shu)發生(sheng)氫脆的(de)(de)(de)可能(neng)性。
一些研究者利用氯滲透法進行了相關的研究。張學元等人研究得出了16Ma鋼在硫化氫溶液中的穩態氯滲透電流IH和H2S濃度的關系，并認為溫度對硫化氫擴散的影響主要表現在擴散系數上。氫在金屬中的擴散速率受陷阱位置控制，取決于陷阱的大小和分布，氫與陷阱的結合能的大小等。
